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前述兩種解決方案均采用CF法蘭,可應用于超高真空系統中。然而在半導體制造及相關設備領域,高真空環境已經能夠滿足使用需求。例如,光刻機、薄膜沉積設備和刻蝕設備的內部環境均為高真空。這種情況下,采用KF、ISO以及其他定制的O圈密封法蘭更具經濟效益。
KF法蘭是一種小尺寸的快卸法蘭,適用于真空度可達10-8 mbar的系統,密封材料通常包括Viton、Buna、Silicone、EPDM和鋁合金等,主體材質通常為不銹鋼。KF法蘭結構包括法蘭、卡箍、O圈密封圈和中心定位環,利用卡箍將這些組件固定,如下圖所示。
KF法蘭連接方式
(1:CF/KF轉接法蘭;2:卡箍;3:中心定位環;4:O形密封圈;5:KF轉接法蘭)
KF法蘭的優點在于結構簡單、使用方便,易于安裝和拆卸。但KF法蘭的適用管道口徑較小,*大直徑為50mm,如果需要更大口徑的法蘭,可以選擇ISO法蘭。
ISO法蘭的常用直徑為63mm和100mm,*大直徑可達630mm,常見形式包括ISO-K和ISO-F。ISO法蘭的真空度、密封材質及主體材質均與KF法蘭相同,但相關組件略有不同。
ISO-K法蘭結構包括法蘭、密封圈和中心定位環,使用卡鉗進行固定,如下圖所示。
ISO-F法蘭結構包括法蘭、密封圈和中心定位環,采用螺栓進行固定,如下圖所示。
ISO法蘭也可提供鋁制法蘭,以減輕法蘭重量。該類型法蘭采用Viton密封,主體材質為鋁合金6061-T6,可與其他ISO法蘭和組件兼容。但相比不銹鋼產品,其頸部焊接線更厚。
無論是KF法蘭還是ISO法蘭,我們均可提供完整的產品系統,并可根據您的需求定制O圈密封法蘭。
三同軸浮動屏蔽真空饋通定制O圈密封法蘭
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